第一百二十四章 奇蹟的诞生 重生04,从奇葩神机开始
周六清晨六点,天刚蒙蒙亮。
林正雄压根没回公寓,在实验室的休息室里眯了三个小时,五点半就醒了。
他用冷水洗了把脸,驱散了残留的睡意,换了件乾净的白大褂,又一头扎进了工作里。
他拿出厚厚的实验笔记,把昨晚的所有数据重新梳理了一遍。
69.8%,差 0.2%。
问题到底出在哪?
他仔细分析不良品的分布情况——
边缘区域失灵占 40%,中心区域偶发失灵占 30%,透光率不达標占 20%,其他问题占 10%。
边缘区域失灵是老毛病了,算法已经优化过好几次,可还是有近一半的不良品栽在这里。
林正雄盯著“40%”这个数字,目光移到旁边梁子安说的新显微镜上,陷入了沉思。
突然,一个念头猛地闪过脑海。
他立刻从不良品堆里拿起一片屏幕,快步走到显微镜前,小心地放好。
放大 1000倍后,屏幕上的画面清晰地显示出来。
ito膜的边缘,居然比中心区域薄了大约 5纳米。
5纳米,之前的普通设备根本检测不出来,但对於触控性能来说,这却是致命的缺陷。
林正雄的心跳瞬间加速,指尖都有些发麻。
找到了!
终於找到问题所在了!
他立刻掏出手机,拨通了张伟明的电话,声音里难掩激动:“小张,赶紧来实验室,我找到问题了!”
半小时后,张伟明气喘吁吁地赶到。
林正雄指著显微镜下的图像,语气急促:“你看,边缘区域的膜层厚度不均匀!”
张伟明凑近镜头一看,眼睛瞬间亮了:“还真是!难怪边缘老是出问题!”
“怎么解决?”他急忙追问。
林正雄低头思索了几秒,抬眼时眼里已有了答案:“调整镀膜时的靶材角度,让粒子沉积能覆盖到边缘,保证厚度均匀。另外,稍微延长一点边缘区域的镀膜时间,刚好能补偿这 5纳米的差距。”
“好,我马上调整设备参数!”张伟明转身就往设备区跑。
上午十点,参数调整完毕,新一轮测试正式开始。
这一次,林正雄全程守在生產线旁,每个环节都亲自盯著。
哪怕是设备的一丝异响、数据的一点波动,他都要仔细確认。
镀膜、退火、冷却、检测,每一步都按最高標准来,容不得半点差错。
下午三点,第一批 100片屏幕完成检测。
林正雄坐在检测仪器前,手指微微发颤,一片一片地核对数据。
陈建国站在旁边,手里的笔悬在笔记本上,等著记录最终结果。
所有屏幕检测完毕,陈建国低头算了算,抬起头时,声音又一次带上了颤抖:“林总……良品率……”
林正雄的心臟几乎要跳出胸腔,紧紧盯著他:“多少?”
陈建国深吸一口气,一字一顿地说:“71片。”
“71%!”
林正雄愣了一秒,隨即猛地握紧拳头,狠狠砸了一下桌子,眼眶瞬间就红了:“再测一次!確认数据没问题!”
第二批 100片立刻投入检测。
下午六点,结果出来——良品 72片,72%!
第三批,晚上九点完成检测。
良品 70片,70%!
三批平均下来,良品率稳稳停在了 71%!
突破了!
真的突破 70%了!
实验室里先是安静了几秒,紧接著,爆发出雷鸣般的欢呼声。
“成功了!我们做到了!”
“71%!终於达標了!”
“熬了这么久,值了!”
林正雄站在原地,看著那些跳动的数字,眼泪毫无预兆地涌了出来,顺著脸颊往下淌。
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