返回第一百二十四章 奇蹟的诞生  重生04,从奇葩神机开始首页

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周六清晨六点,天刚蒙蒙亮。

林正雄压根没回公寓,在实验室的休息室里眯了三个小时,五点半就醒了。

他用冷水洗了把脸,驱散了残留的睡意,换了件乾净的白大褂,又一头扎进了工作里。

他拿出厚厚的实验笔记,把昨晚的所有数据重新梳理了一遍。

69.8%,差 0.2%。

问题到底出在哪?

他仔细分析不良品的分布情况——

边缘区域失灵占 40%,中心区域偶发失灵占 30%,透光率不达標占 20%,其他问题占 10%。

边缘区域失灵是老毛病了,算法已经优化过好几次,可还是有近一半的不良品栽在这里。

林正雄盯著“40%”这个数字,目光移到旁边梁子安说的新显微镜上,陷入了沉思。

突然,一个念头猛地闪过脑海。

他立刻从不良品堆里拿起一片屏幕,快步走到显微镜前,小心地放好。

放大 1000倍后,屏幕上的画面清晰地显示出来。

ito膜的边缘,居然比中心区域薄了大约 5纳米。

5纳米,之前的普通设备根本检测不出来,但对於触控性能来说,这却是致命的缺陷。

林正雄的心跳瞬间加速,指尖都有些发麻。

找到了!

终於找到问题所在了!

他立刻掏出手机,拨通了张伟明的电话,声音里难掩激动:“小张,赶紧来实验室,我找到问题了!”

半小时后,张伟明气喘吁吁地赶到。

林正雄指著显微镜下的图像,语气急促:“你看,边缘区域的膜层厚度不均匀!”

张伟明凑近镜头一看,眼睛瞬间亮了:“还真是!难怪边缘老是出问题!”

“怎么解决?”他急忙追问。

林正雄低头思索了几秒,抬眼时眼里已有了答案:“调整镀膜时的靶材角度,让粒子沉积能覆盖到边缘,保证厚度均匀。另外,稍微延长一点边缘区域的镀膜时间,刚好能补偿这 5纳米的差距。”

“好,我马上调整设备参数!”张伟明转身就往设备区跑。

上午十点,参数调整完毕,新一轮测试正式开始。

这一次,林正雄全程守在生產线旁,每个环节都亲自盯著。

哪怕是设备的一丝异响、数据的一点波动,他都要仔细確认。

镀膜、退火、冷却、检测,每一步都按最高標准来,容不得半点差错。

下午三点,第一批 100片屏幕完成检测。

林正雄坐在检测仪器前,手指微微发颤,一片一片地核对数据。

陈建国站在旁边,手里的笔悬在笔记本上,等著记录最终结果。

所有屏幕检测完毕,陈建国低头算了算,抬起头时,声音又一次带上了颤抖:“林总……良品率……”

林正雄的心臟几乎要跳出胸腔,紧紧盯著他:“多少?”

陈建国深吸一口气,一字一顿地说:“71片。”

“71%!”

林正雄愣了一秒,隨即猛地握紧拳头,狠狠砸了一下桌子,眼眶瞬间就红了:“再测一次!確认数据没问题!”

第二批 100片立刻投入检测。

下午六点,结果出来——良品 72片,72%!

第三批,晚上九点完成检测。

良品 70片,70%!

三批平均下来,良品率稳稳停在了 71%!

突破了!

真的突破 70%了!

实验室里先是安静了几秒,紧接著,爆发出雷鸣般的欢呼声。

“成功了!我们做到了!”

“71%!终於达標了!”

“熬了这么久,值了!”

林正雄站在原地,看著那些跳动的数字,眼泪毫无预兆地涌了出来,顺著脸颊往下淌。

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